杨杰对此倒是有足🃊够的耐心，前世的时候艾斯摩尔公司也是花费了十多年时间和技术积累才推出了紫外光光🁓刻机产品出来。
其实从200🟁🚉👠0年以来，在光学光刻技术努力突破分辨率“极限👄🆑🎴”的同时，海外很多🚊👮研究机构也是在研发包括极紫外线光刻技术，电子束光刻技术，X射线光刻技术，纳米压印技术等不同的光刻技术。
其中X射线光刻技术被提出来进行研发的主要原因是因为X射线的波长极短，🚟🔧X射线在用于光刻时的波长通常在0.7到0.12纳米之间，它极强的穿透性📁🗻决定了它在厚材料上也能定义出高分辨率的图形来。
不过这种🜓🁱技术现阶段来说有两个极大的困难，一个就☛是如何得到能够长时间稳定可靠工作的光源，到现在为止，世界上还没有办法造出符合这样条件的💱🕭的光源来，因为现阶段人类制造出第三代同步辐射光源都已经拿出吃奶的劲了。
而且使用X射线光刻技术最💏🐴主要且最困难的技术🔬🃭就是掩模制造技术，其中1：1的光刻非常困难，是妨碍技术发展的🎽难题之一。
在过去的发展中，科学家对其已经得到了巨大的发展，也有一⚉🏧些新型材料的发现以及应用，🄺🂥🐽有一些已经在实验室中得以实践，但对于工业发展还是没有什么重大的成就。
X射线掩模的基本结构包括薄膜、吸收体、框架、衬底，其中薄膜衬基材料一般使用🚊👮硅、碳化🁪🈪🁇硅、金刚石，吸收体主要使用金、钨等材料。
要能够使X射线以及其他光线的有效透过，且保障其有足够的机械强度，具有高的X🚊👮射线的吸收性，且要足够厚，保障其高宽比的量，且其要有高度的分辨率以及🐄☾反差，对于其掩模的尺寸要保障其精度，要没有缺陷或者缺陷较少。
另外还要研发特殊的光刻胶，难度比华兴集团公司研制极紫外光光刻胶的🚢难度还要大。
所🅉🄰🁏以这项技术只能是作为预研，🟤🟊🛜现阶段根本没有实现的可能。
至于一些研发机构进行研究的纳米压印光刻技术，主要包括热压印、紫外压印以及微接触印刷，这个技术原理就跟盖章一🙔样，采用高分辨率电子束等方法将结构复杂的纳米结构图案制在印章上,然后用🜡🃭预先图案化的印章使聚合物材料变形而在聚合物上形成结构图案。
不过这种技术也是受限于现阶段设备制造技术和化学材料技术，就算是用这种技术也需要极为精密的电子束设备在碳化硅材料上进行刻蚀图案，还要研发涂敷在晶🐄☾圆上的不同聚合物，工艺也并不简单，也需要大量的厂商进行合作。
现在光刻技术已经是非常成熟了，大量的厂商都能从这个过程中得到利益，谁会愿意为🌚了🀙一个谁也不能保证一定成功的新工艺方法来投入大量的人力物力财力去研发这些，轻易地改变自己的技术路线呢！
而且极紫外光则是目前距实用化最近的一种🔫🃡深亚🔬🃭微米的光刻技术，因为鹰酱在八十年代就对极紫外光技术进行了理论上的探讨并做了许多相关的实验，而且也是第一个造出第🔶🅄三代辐射同步光源的国家。
可以说鹰酱砸很多技术领域都是走在最前面的，但是九十年代鹰酱努力地发展金融产业，大量的资本涌入了金融产业，国内的实体制造业也是受到了很大的冲击，鹰酱国内的唯一一家光刻机公司也是卖给了艾斯摩尔公司，虽然大量的研究机构还是能得到足够的经费，而军工集团公司因为军火出口制造的能🔼🅺力并没有下降得厉害，但🛸是因为民间的企业都是经营困难破产的破产，转移产业的转移产业，整个国家的制造能力实际上是处于不断下滑的状态。
而这十年间兔子国内的制造实力却是🜸🕇处于一种急速提升的状态，尤♺🍡其是华兴集团公司能够设计制造出高精密的加工机械设备和🍝在材料技术上的进步，连带着国内整体制造实力都是往上迈上了一个很大的台阶。
能够在这么短的时间里面建设出来国内第一座第三代同步辐射光源设施并且大部分的仪器设备都能够自己设计制🚒💳造出来就非常好地体现出来了⚲。
杨杰倒是希望鹰酱能够🆑🎷🕯自己意识到自己国内的问题时间更晚一些，尽量地为自己的公司和国内🁪🈪🁇多争取发展的时间。
不过他也知道鹰酱要想再实现自己制造业强大的可能性并不是很大，除非碰上一个特🚊👮别的历史机遇或者有那么一🚒💳个非常强🙔势的政治人物上台花非常大的力气才能扭转颓势，否则国力衰退只是一个迟早的问题。
杨杰要现在要做的就是要紧紧地咬住这个历史机遇，努力地😦将手中的掌握的核心技术继续投入🁪🈪🁇研发下去，别的不说，半导体产业最核心关键的光刻🚮🖬机技术和光刻机的市场他是要死死地攥在手里的。
现在微电子行业的发展已经是受到重重阻碍，从微电子技术的发展过程能分析判断出，若不🄺🂥🐽早日推出极紫外光刻技术来对当前的芯片制造方法做出全面的改进，将使整个芯片工业处在岌岌可危的地步。
从现在来看，华兴集团公司在极紫外光光源和镜🔬🃭组方面的技术已经是掌握了，接下来的就是如何将光源和镜组🔳小型化，虽然这中间还有很多的工程技术难题，但📗🚿🙅是这对华兴集团公司已经不是什么特别困难的事情了，几年之内是能够可以解决的。
至于双工件台的精度误差控制在两纳米之内的高难度工程技术难题现在因为瑞星科技公司在磁悬浮技术上的研发上已经取得了很大的突破，现在瑞星科技公司的工🐄☾件台运动精度误差控制在两到三纳米之间，已经是追上了艾斯摩尔公司的技🖤术水平。
因为瑞星科技公司是最早研发沉浸式光刻机技术的，在这方积累了大量的技术专利，艾斯摩尔公司到今年才好不容易造出了第一款沉浸式光刻机出来，而且🃤🙱🎇卖得很贵，足足比瑞星科技公司的G系列光刻机多出了一千万🚆美金。